'고객과 경쟁하지 않는다.'세계 최대 파운드리 업체 대만 TSMC 사훈이다. 이는 파운드리 서비스에서 가장 중요한 지점을 함축한다. 파운드리 고객은 팹리스다. 고객은 경쟁사가 아닌 파트너다. 고객이 설계도를 맡길 수 있는 신뢰성을 확보함과 동시에 고객이 요구하는 맞춤 서비스를 A부터 Z까지 제공하는지가 사업 성패를 가른다. 인텔이 3년 만에 파운드리 사업 재개를 선포했다. 인텔은 2013년 파운드리 사업에 진출했다가 2018년 말 철수한 바 있다. 불과 3년 만에 사업 재진출을 선언했다면, 인텔도 과거와 같은 공식으로 사업에 임하지는 않을 것이다.
인텔이 파운드리 사업 진출을 본격화한다. 이를 위해 파운드리 사업을 전담할 자회사 인텔파운드리서비스(IFS)도 신설했다. 최근 기술 안보 측면에서 반도체 산업 ‘리쇼어링(제조업 유턴)’이 강조됨에 따라 신설 공장은 애리조나주에 건설할 계획이다.팻 겔싱어 인텔 CEO(최고경영자)는 23일(현지시간) 온라인 브리핑을 통해 파운드리 본격화 계획을 발표하고 "EUV(극자외선) 활용률을 높여 3nm(나노미터) 공정까지 나아갈 것"이라고 말했다. 인텔은 과거에도 일부 팹을 활용해 파운드리 사업을 영위했으나 2018년 연말 사업에서 철수했다.
삼성전자와 네덜란드 ASML이 극자외선(EUV) 노광용 차세대 광원을 테스트하고 있다.
중국 SMIC가 14nm 공정 수율을 높이면서 성숙한 공정의 생산에 박차를 가하고 있다. 중국 언론 IT즈자에 따르면 SMIC의 협력사들이 SMIC의 14nm 공정 수율이 이미 TSMC에 근접했으며, 약 90~95% 수준이라고 전했다. 또 최근 SMIC는 각 공정별 생산능력이 풀가동되면서, 일부 성숙 공정 주문이 2022년 물량까지 배정된 상태다. SMIC는 지난 2019년 4분기부터 14nm 공정 양산을 시작했다. SMIC는 최근 14nm 생산능력을 위한 12억 달러 규모 장비 수급 연장 계약 사실도 공개했다. 지난 3일 SMIC
SK하이닉스가 극자외선(EUV) 노광장비 도입 계획을 확정했다. 10나노급 4세대(1a) D램 제품부터는 EUV 기술 사용이 불가피함에 따라 향후 5년간 20여대 EUV 노광장비를 도입할 전망이다.
반도체 파운드리 업계는 보통 7나노, 5나노 등 ‘x나노 공정’ 이라는 표현으로 자사 서비스와 기술력을 표현한다.여기서 x나노는 트랜지스터의 게이트(Gate) 선폭 길이를 의미한다. 트랜지스터는 반도체의 기본 구조로, 게이트에 전압이 가해지면 채널(Channel)을 통해 소스(Source)와 드레인(Drain)으로 전류가 흐르면서 동작한다.반도체가 고집적화 되면서 트랜지스터 크기도 점점 줄어들고 있고, 게이트의 노드(선폭) 역시 좁아지고 있다. 게이트 노드가 트랜지스터의 집적도를 잘 나타낼 수 있는 요소이기 때문에 공정을 지칭할 때
중국 상하이시가 2021년도 중점 프로젝트 계획을 공표하면서 SMIC의 12인치 공장 추진 내역이 공개됐다. 8일 중국 언론 테크웹에 따르면 상하이시는 SMIC의 12인치 'SN1' 프로젝트가 중점 프로젝트라며, 건설이 진행되고 있는 상태라고 밝혔다. 이 SN1 프로젝트는 SMIC 산하 중신난팡(中芯南方)이 추진하고 있으며, 총 90억5900만 달러(약 10조 482억 원)가 투입된다. 이중 생산설비 구매 및 구축비는 73억3000만 달러(약 8조1319억 원)다. 월 3만5000장의 웨이퍼 생산을 목표로 설계된다.
IMEC은 4일 온라인으로 진행된 '세미콘 코리아 2021'에서 반도체 미세화의 새로운 로드맵을 제시했다. 룩 반 데 호프 아이멕(IMEC) 최고경영자(CEO)는 '뉴노멀 시대, 인간을 위한 기술'이라는 주제로 기조연설을 했다. 그는 "코로나19로 개인과 기업에서 사용하는 웹 트래픽이 40% 급증했다"며 "기하급수적으로 증가하는 데이터를 다루기 위한 최신 기술이 발달하지 않으면 전력 소비가 급격히 늘어날 수밖에 없다"고 지적했다. 룩 반 데 호프는 빅 데이터 처리와 에너지 효율을 위해 반도체 미세화 연구
SK하이닉스는 1일 경기도 이천 본사에서 M16 준공식을 개최했다. M16은 SK하이닉스가 국내외 보유한 반도체 생산시설 중 가장 크며, 극자외선(EUV) 노광 공정이 처음 도입됐다. 이날 준공식에는 최태원 SK그룹 회장, 최재원 수석부회장, 조대식 SK수펙스추구협의회 의장, 박정호 SK하이닉스 부회장, 장동현 SK㈜ 사장, 이석희 SK하이닉스 CEO, 하영구 SK하이닉스 선임사외이사 등 16명이 현장에 참석했다. 회사 구성원과 협력회사 직원들은 화상연결을 통해 행사에 참여했다.최태원 회장은 이날 준공식에서 “반도체 경기가 하락세를
SK하이닉스가 내달 경기 이천 M16 공장 준공식을 개최한다. 파일럿 생산을 거쳐 오는 6월 본격 양산 체제로 전환할 계획이다. 현재 중국 이전을 추진 중인 M8 시스템반도체 생산라인은 시황에 대응할 수 있도록 최대한 이른 시간 내에 이전 작업을 마무리하기로 했다.SK하이닉스는 29일 4분기 실적발표 후 열린 컨퍼런스콜에서 내달 1일 M16 공장 준공식을 개최한다고 밝혔다. M16은 SK하이닉스가 지난 2018년 12월 총 15조원을 투자해 설립키로 한 신공장이다. 3층 규모로 구축되며, SK하이닉스는 M16에서 처음 극자외선(EU
ASML이 20일 지난해 4분기 실적을 발표하면서 올해 중국 사업의 확대 가능성을 밝혔다.ASML의 재무보고서에 따르면 지난해 연간 매출액 140억 유로(약 18조8500억 원) 중 45억 유로(약 6조592억 원)가 31대의 극자외선(EUV)에서 나온 가운데 비록 중국 대륙 기업에 EUV 리소그래피 장비가 공급되진 않았지만 ASML의 중국 대륙 판매액은 2019년 12%에서 2020년 18%로 늘었다. 지난해 4분기만 봤을 때, ASML의 중국 대륙 매출 비중은 12% 였지만 3분기 매출 비중은 21%에 달했다. 21일 중국 언론
반도체용 노광장비 공급사인 네덜란드 ASML이 지난해 31대의 EUV(극자외선) 노광장비를 출하했다. EUV는 7nm(나노미터) 이하 미세공정 구현을 위한 필수 장비다. 세계적으로 ASML 한 곳만 공급 가능한 탓에 수요 대비 공급이 제한적이다.ASML은 20일 실적발표를 통해 지난 한해 총 31대의 EUV 노광장비를 출하했다고 20일 밝혔다. 2019년 26대 대비 5대 늘어난 수치다. 당초 반도체 업계는 ASML이 지난해 35대 정도의 EUV 장비를 출하할 것으로 예상했다. 그러나 신종 코로나바이러스감염증 확산 탓에 반도체 투자
중국 전자 재료 및 부품 생산 기업 징루이(Jingrui)가 대리업체를 통해 한국 SK하이닉스로부터 한 대의 ASML 리소그래피 중고 장비를 구매, 입고했다. 징루이는 앞서 지난해 9월 공시를 통해 장비 구매 사실을 알렸으며 구매 가격은 1102만5000달러(약 121억1647만 원)다. 이어 지난 19일 공시를 통해 여러 협력업체를 거쳐 'ASML XT 1900 Gi' 리소그래피 장비를 순조롭게 반입했다고 밝혔다. 이 장비는 19일 이 회사의 쑤저우(苏州) 포토레지스트 연구개발 실험실에 자리잡았다. 19일 중국 언론
삼성전자가 갤럭시S21 시리즈에 탑재하는 5G모뎀 통합 프로세서 '엑시노스(Exynos) 2100'을 출시했다. 삼성 프리미엄 모바일AP 첫 5G모뎀 통합칩이다. 5나노 극자외선(EUV) 파운드리 공정에서 생산돼 전작인 엑시노스990보다 CPU 성능은 30%, GPU 성능은 40% 이상 향상되고, 온디바이스 AI(On-Device AI) 성능도 크게 강화됐다고 삼성측은 설명했다. 강인엽 삼성전자 시스템LSI사업부장 사장은 "'엑시노스2100'에 최첨단 EUV 공정, 최신 설계 기술을 적용해 이전 모델 보
국내 반도체 장비 업체들의 중국 푸젠진화반도체(JHICC)로부터의 수주가 이어지고 있다. 2018년 미국 상무부가 JHICC를 수출금지 대상으로 지정한 이후 미국 반도체 장비 업체들의 빈 자리를 국내 장비사들이 채운 것으로 풀이된다(KIPOST 2020년 6월 23일자 참조). 그러나 JHICC에서 받은 수주가 실제 납품으로 이어질지는 미지수다. 미국은 자국 수출입 제한 조치를 타 국가까지 직간접적으로 포함시킨 바 있다. 국내 장비업체라 해도 반도체 산업 특성상 미국 기술⋅소프트웨어가 편입되지 않은 장비는 드물다. 실제 제재가 가해질 경우, 국내 업체들의 장비 수주가 반사이익이 아닌 유탄으로 돌아올 수 있다는 우려도 나온다.
이재용 삼성전자 부회장이 새해 첫 경영 행보로 경기도 평택사업장을 찾았다. 삼성전자는 이 부회장이 4일 평택 2공장(P2)을 방문해 경영진들과 반도체 중장기 전략을 논의했다고 밝혔다. 평택 2공장은 D램⋅낸드플래시⋅시스템반도체를 생산하는 반도체 첨단 복합생산라인이다. 이 라인에서는 업계 최초로 EUV(극자외선) 공정을 적용한 첨단 3세대 10나노급(1z) LPDDR5 모바일 D램이 생산됐다. 현재 평택 3공장(P3)도 신축공사가 진행 중이며 2023년 말 양산에 들어갈 것으로 예상된다.이 부회장은 지난해에도 새해 첫 일정으로 경기도
내년 메모리 가격 상승세가 이어질 것으로 예상되는 가운데 SK하이닉스가 D램 투자를 계획보다 늘릴지 주목된다. 가격 상승의 수혜를 누리기 위해서는 물량을 늘려야 하지만 늘어난 물량 때문에 가격이 안정화 되면 오히려 투자 대비 수익률이 떨어질 수 있다. SK하이닉스는 최근 완공한 이천 M16라인에 이번달 말 EUV(극자외선) 노광기를 반입하고 내년 초부터 다른 공정장비들을 입고할 계획이다. SK하이닉스는 이 공장에서 10나노대 4세대 D램인 1a나노 제품을 생산할 예정이다. 이천 M14라인에서 1a나노 양산을 우선 시작하고, M16라인에서는 내년 말부터 본격적으로 양산을 시작한다.
중국 나타(NATA Opto-Electronic Material)는 공시를 통해 자사가 개발한 불화아르곤(ArF) 포토레지스트가 최근 고객의 사용 인증을 통과했다고 밝혔다. 이는 ArF 포토레지스트 상품 개발 및 국산화를 의미하는 것이라며 큰 의미를 뒀다. 중국 내에서 검증을 한 첫 ArF 포토레지스트라고 설명했다. 중국 언론 신랑차이징에 인용된 검증 평가 보고서에 따르면 이 제품은 고객의 50nm 플래시 메모리 상품 공정에서 검증을 진행했으며 나타의 ArF 포토레지스트 테스트 각 항목 성능이 공정의 규격 요구, 수율 결과를 만족시
미국 행정부의 중국 SMIC에 대한 제재가 공식화됐다(KIPOST 2020년 9월 29일자 참조). 하이실리콘에 이어 파운드리 업체 SMIC까지 제재 대상에 오르면서 설계부터 제조에 이르는 중국 시스템 반도체 산업 전체가 봉쇄됐다.현재 SMIC 매출 중 북미 비중은 20% 안팎이지만, 미 행정부 제재 효력이 동맹국까지 미친다는 점에서 국내 팹리스들의 각별한 주의도 요구된다.
KLA는 3D낸드플래시용 웨이퍼 검사 장비 'PWG5' 웨이퍼 기하 구조 계측 시스템과 'Surfscan SP7XP' 웨이퍼 결함 검사 시스템을 출시했다고 14일 밝혔다. 새로운 시스템은 최첨단 메모리 및 로직 집적 회로를 제조하는 팹에서 쓰인다. 분자 초고층 건물처럼 더 높이 적층되어 성능이 가장 뛰어난 플래시 메모리는 3D NAND로 불리는 아키텍처로 만들어진다. 지속적으로 공간 효율성과 경제적인 비용을 추구하는 상황에서 이미 최첨단 모바일 기기에 적용되어 시판된 적층 96단 최고 등급 메모리 칩은