중국 나타(NATA Opto-Electronic Material)는 공시를 통해 자사가 개발한 불화아르곤(ArF) 포토레지스트가 최근 고객의 사용 인증을 통과했다고 밝혔다. 이는 ArF 포토레지스트 상품 개발 및 국산화를 의미하는 것이라며 큰 의미를 뒀다. 중국 내에서 검증을 한 첫 ArF 포토레지스트라고 설명했다. 

중국 언론 신랑차이징에 인용된 검증 평가 보고서에 따르면 이 제품은 고객의 50nm 플래시 메모리 상품 공정에서 검증을 진행했으며 나타의 ArF 포토레지스트 테스트 각 항목 성능이 공정의 규격 요구, 수율 결과를 만족시켰다.

이 제품 개발은 나타가 국가 프로젝트로 'ArF 포토레지스트 개발 및 산업화 프로젝트'를 추진해 개발됐으며 총 6억 위안(약 1010억3400만 원)이 투자됐다. 이 제품이 양산되면 약 10억 위안(약 1684억 원) 규모의 판매액을 기록할 수 있을 것으로 회사는 예상하고 있다. 

포토레지스트는 반도체 광각 공정의 핵심 재료로서, 반도체 형상 공정과 정밀 공정의 수율과 품질, 성능에 큰 영향을 미친다. 

최근 반도체 포토레지스트 시장은 주로 미국, 일본 등 기업이 장악하고 있으며 일본 JSR, TOK(Tokyo Ohka Kogyo), 신에츠(ShinEtsu), 후지일렉트릭(Fuji Electric) 등 네 기업이 세계 시장의 70% 이상을 점유하고 있다. 

반도체용 포토레지스트는 극자외선(EUV)용, ArF용, 불화크립톤(KrF)용, G라인, i라인 등으로 나뉘는 데 중국에서 지난해 G라인과 i라인의 경우 자급률이 20%, KrF 포토레지스트 자급률은 5% 수준이며 ArF 포토레지스트는  전량 수입에 의존하고 있다. 하지만 최근 중국 여러 기업에서 이미 관련 개발을 가속하고 있다.