중국 재료 기업이 불화아르곤(ArF) 포토레지스트 영역에서 생산 규모를 갖춰가고 있으며 내년 대량 생산에 돌입할 것이라고 밝혔다. 

중국 나타(NATA Opto-Electronic Material)는 11일 기업설명회에서 회사의 ArF 포토레지스트 상품 개발과 상용화 진척을 설명하고 최근 이미 25톤 규모의 포토레지스트를 생산할 수 있는 공장을 건설했다고 밝혔다. 주로 ASML 첨단 이머전 리소그라피 장비 등에 이미 적용돼 사용되고 있다. 

중국 언론 지웨이왕에 따르면 나타는 품질 검측에 쓰이는 리소그라피 장비 등 측량 장비가 해외에서 수입되는데, 이미 이를 갖췄으며, 잘 운영되고 있어 문제가 없다고도 설명했다 주요 원재료는 자체 개발, 생산하는 데다 생산 장비도 중국 내 기업과 공동으로 개발해 따로 생산 중단 리스크가 없다고 전했다. 

나타는 지난해 말 자체 개발한 ArF 포토레지스트에 대해 한 로우엔드 기업의 인증을 받아, 처음으로 중국산 ArF 포토레지스트 검증을 받은 기업이 됐다. 광학 성능이 모두 상용 레지스트 수준에 이르러 포토레지스트의 중국산 대체를 가능케했다. 중국산 ArF 포토레지스트로서 첫 주문을 받아 소량 판매를 실현했다. 

나타의 포토레지스트 상품은 이미 여러 기업의 검증을 거치고 있는데 특히 테스트 중인 ArF 포토레지스트는 아날로그칩과 메모리 칩에 쓰일 수 있다. 최근 테스트 결과를 봤을 때 ArF 포토레지스트 성능이 일본 제품과 동등한 수준이며, ArF 포토레지스트 국산화를 통해 외산 대체가 가능할 것으로 기대되고 있다. 

회사는 ArF 포토레지스트가 중국의 가장 첨단 포토레지스트로서, 올해 주요 고객의 인증을 받아 내년부터 대량 생산에 돌입하고 이른 시일 내 이익을 낼 것이란 각오다.