중국 반도체 재료 기업이 포토레지스트 개발을 위한 장비를 반입해 내년 양산할 계획이라고 밝혔다. 

중국 상하이신양(SHANGHAI SINYANG)은 투자자 교류 플랫폼을 통해 "KrF 포토레지스트에 맞는 포토리소그래피 장비를 이미 반입해 설치하고 조율을 시작했다"며 "내년 상반기 중 테스트에 돌입할 것"이라고 공개했다. 

앞서 상하이신양은 "포토리소그래피 장비, 인재와 핵심 원재료 이 세 가지 주요 제약 요소로 인해 중국에서 반도체용 포토레지스트 연구개발 진척도가 매우 늦었다"고 밝힌 바 있다. 비록 회사가 '제로(0)'에서 시작해 전도액과 세정액 등 제품을 개발했지만 포토레지스트 개발 성과를 그리 많지 않았다. 이에 회사는 최간 일본 유명 포토레지스트 기업의 전문 포토레지스트 개발 기술 인재를 영입, 신규 연구개발팀을 꾸렸다. 

이미 'ASML1400'형 중고 포토리소그래피 장비를 구매 및 설치, 포토레지스트 연구개발에 적용하고 있다. 이 장비는 55nm 기술 노드까지 커버가 가능하며 후속 연구개발 장비와 조합할 수도 있다. 

포토레지스트개발에 쓰이는 원재료로서 포토케미칼센시티저(photochemical sensitizer), 포토센시티브 레진(photosensitive resin) 등 기업 역시 연구개발을 진행, 핵심 기술에서 성과를 냈다. 

올해 이래 상하이신양은 이미 로직과 아날로그칩 ArF 기술을 기반으로 메모리칩에 쓰이는 반도체 KrF 연구개발을 가속해, 회사가 개발한 포토레지스트 제품을 다양화하면서 중국 반도체 제품을 위한 포토레지스트 수요에 대응할 계획이다.