포토레지스트 생산과 연구개발 강화

중국 반도체 재료 기업이 글로벌 재료 전문가를 영입해 포토레지스트 사업을 강화한다. 

2일 중국 언론 지웨이왕에 따르면 중국 징루이(JINGRUI)가 전 TOK 임원이었던 천웨이판(陈韦帆)을 포토레지스트사업부 총경리로 영입했다고 밝혔다. 천 총경리는 반도체 업계에서 약 20년 간 종사해 온 전문가로서 파워칩(Powerchip), ASE, AUO, 마이크론, TOK 등 기업을 거쳤다. 일본 TOK에서 10년 간 중국지역을 총괄했으며 특히 하이엔드 포토레지스트 상품 기술 연구개발, 시장 개척 및 평가 등에 있어 풍부한 경험을 보유하고 있다. 

 

징루이 로고. /징루이 제공 

 

징루이는 이번 천 총경리 영입을 통해 중국의 반도체 자원을 결합하면 회사의 하이엔드 포토레지스트 연구개발과 시장 개척에 속도를 낼 수 있을 것으로 보고 있다. 천 총경리가 이끌어 포토레지스트 사업이 새로운 궤도로 진입할 수 있을 것이란 기대다. 

징루이는 이날 포토레지스트사업부 경쟁력을 강화하겠다며 최근 몇 년간 G/I라인 포토레지스트 시장 점유율을 높이고 있다고 강조했다. KrF 포토레지스트 상용화, ArF 포토레지스트 연구개발 등을 강하게 추진할 계획이다. 

징루이의 I라인 포토레지스트는 이미 SMIC, CXMT, 실란(Silan), 양졔(Yangjie) 등 반도체 기업에 공급되고 있다. 징루이의 KrF 포토레지스트 자체 테스트를 마치고 최근 고객의 생산라인에서 테스트를 하고 있다. 0.15μm해상도를 실현해 테스트 통과 이후 양산 단계에 들어가게 된다. 회사의 ArF 하이엔드 포토레지스트 연구개발 프로젝트도 이미 정식으로 시작됐으며, 90~28nm 칩 공정을 위한 ArF(193nm) 포토레지스트를 개발해 반도체 산업의 핵심 재료 시장에서 수요에 대응하겠단 계획이다. 


 

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