숨가쁘게 변화하는 산업 환경에서 매주 기업들 소식이 쏟아져 나옵니다. KIPOST는 다양한 전자 제조 관련 기업들의 사업 전략과 수행 실적을 엿볼 수 있는 정보들을 일주일간 한 데 모아 제공합니다. ◇반도체 업계 소식 ◇디스플레이 업계 소식 ◇전기차 및 자율주행차 업계 소식
KT(대표 구현모)가 2022년 조직개편 및 그룹 임원인사를 시행했다고 12일 밝혔다. KT는 이번 조직개편과 임원인사를 통해 국민들에게 더욱 신뢰받는 통신기업으로 역할을 다지는 한편 코로나19 이후 치열해질 디지털경쟁 시대를 주도하는 디지털 플랫폼 기업(DIGICO)으로 한층 성장하겠다는 계획이다.■안정적인 통신서비스와 DX서비스 뒷받침 위해 네트워크 혁신 추진KT는 과감한 네트워크 혁신을 통해 통신 서비스에 대한 신뢰도를 높이고, 새로운 성장동력으로 추진 중인 디지털혁신(DX, Digital Transformation) 서비스를
램리서치가 '2021 우수 공급업체 어워드' 수상기업을 28일(현지 시각) 발표했다.램리서치는 글로벌 반도체 소재부품 협력업체 중 확장성, 유연성, 품질 부문에서 모범적인 실적을 달성한 10개 협력업체를 2021년도 우수협력업체 수상기업으로 선정 발표했다. 램리서치는 종합적 우수성, 램리서치 고객사의 수요에 대응하는 생산성 확장능력, 제품개발 시 요구되는 초기제품의 신속한 생산 및 관리역량 등을 우수 공급업체 어워드의 세부 선정기준으로 삼아 글로벌 10대 우수 협력업체를 선정했으며 2021 우수 공급업체 어워드 수상
화합물 반도체 전문업체 RFHIC는 RF에너지 분야 사업을 본격 확대한다고 26일 밝혔다. RFHIC는 주력 생산품인 GaN(질화갈륨) 트랜지스터 및 전력증폭기를 적용시킨 ‘반도체형 마이크로웨이브 제너레이터(Solid-State Microwave Generator)’를 다양한 RF에너지 분야에 활용할 계획이다. 이를 통해 기존 통신·방산사업에서 RF에너지사업까지 사업 포트폴리오를 확장할 수 있을 것으로 기대한다. RFHIC가 반도체형 마이크로웨이브 제너레이터를 적용시키는 사업 분야는 플라즈마(Plasma), 가열(Heating),
삼성전자가 복수의 EUV(극자외선) 공정을 적용한 14nm(나노미터) D램 양산에 들어갔다. 지난해 삼성전자가 D램에 처음 EUV 공정을 도입한 3세대 10나노급(1z) D램보다 EUV 공정 빈도가 늘면서 관련 후방 산업에도 큰 영향을 미칠 전망이다. 삼성전자는 멀티레이어 EUV 공정이 적용된 14nm급 DDR5 D램을 양산한다고 12일 밝혔다. 삼성전자는 지난해 3월 업계 최초로 EUV 공정을 적용한 D램 모듈을 고객사들에게 공급한 바 있다. 당시 생산품목은 EUV 공정이 1개층에만 적용된 1z D램이었다. 이번 14nm급 DDR
장비 제작에 필수적으로 들어가는 서보모터 품귀가 갈수록 심화되고 있다. 반도체⋅디스플레이⋅배터리 분야에서 경쟁적 투자 수요가 몰리는데다 과거와 달리 설비 자동화 비율은 더 높아진 탓이다.글로벌 서보모터 산업은 일본 3사가 하이엔드 시장을 과점하고 있다는 점에서 단시간에 물량 부족이 해소되기 힘든 구조다.
중국 재료 기업이 KrF 포토레지스트의 고객 납품을 앞뒀다. 중국 언론 지웨이왕에 따르면 중국 징루이(JINGRUI)가 고급 KrF 포토레지스트 테스트를 완료하고 이미 고객 검증 단계에 들어갔다고 밝혔다. 최근 고급 ArF 포토레지스트 연구개발을 시작하고 이미 리소그래피 장비, 균질화 현상제, 주사 전자현미경, 스텝 미터 및 기타 장비의 구매도 마쳤다고 전했다. 이중 ASML 1900 Gi 리소그래피 장비는 조율 단계에 있으며 올해 연말 경 시가동을 완료할 것이라고 밝혔다. 메이산(眉山) 자회사가 건설한 연산 1200톤 규모의 반도
2019년 일본 수출 규제 이후 반도체 업계에서는 한동안 반도체 소재 국산화 바람이 불었다. 특히 초미세 공정에 필요한 극자외선(EUV) 노광 장비에 들어가는 포토레지스트(PR) 등 일본계 화학 업체들이 독점하는 소재 공급선을 다원화해야 한다는 움직임이 커졌다. 그럼에도 아직까지 국내 업체들의 소재 기술력은 글로벌 업체들과 비교하기 어려운 수준이다. 이에 따라 소재 국산화 시도가 기존 글로벌 메인 벤더 경계·관리 수준에 그치고 있다.
중국 장비 기업이 미니 LED 양산 주요 장비 공급이 순항하고 있다고 밝혔다. 중국 언론 LED인사이드에 따르면 중국 장비 기업 AMEC이 고성능 미니 LED 양산에 쓰이는 유기화학기상증착장비(MOCVD) 장비 '프리스모 유니맥스(Prismo UniMax)'를 고객에 공급하는 프로젝트를 진행하고 있다. AMEC에 따르면 MOCVD 장비는 대량 생산을 위해 설계됐으며 업계 선두의 가공 용량을 보유했다. 흑연 디스크 웨이퍼의 배열을 최적화해 처리 용량을 확장하고 164개의 4인치 또는 72개의 6인치 웨이퍼를 성장시킬 수
SK하이닉스는 극자외선(EUV) 노광공정을 처음 적용한 10나노급 4세대(1a) 8Gb LPDDR4 모바일 D램의 양산을 이달초 시작했다고 지난 12일 밝혔다. 10나노급 4세대 D램 양산은 메모리 반도체 세계 3위인 미국 마이크론에 이어 2번째다. D램 양산에 EUV를 활용한 것도 삼성전자에 이어 세계에서 2번째다. 업계에서는 통상 10나노대 D램부터 세대별로 알파벳 기호를 붙여 호칭하고 있다. 1x(1세대), 1y(2세대), 1z(3세대)에 이어 1a는 4세대 기술이다. SK하이닉스가 1a 기술을 적용한 모바일 D램 신제품은 하
진세미와 중국 청두시의 반도체 합작사 청두가오전(成都高真科技, 이하 CHJS)이 반도체 전공정 발주를 시작했다. 진세미는 하이닉스반도체(현 SK하이닉스) 시절 CTO(최고기술책임자)를 지낸 최진석 부사장이 대표로 있는 회사다.
일본의 반도체 소재 수출 규제 후 2년이 지났다. 그동안 국내 업계는 다방면에서 국산화를 위해 노력해왔다. 고순도 불산, 노광용 포토레지스터 일부 국산화 등 성과가 있었지만 글로벌 반도체 시장의 벽은 여전히 높다.일본
중국 재료 기업이 고급형 포토레지스트 개발에 돌입했다고 밝혔다. 중국 재료 및 부품 기업 징루이(晶瑞)가 KrF 포토레지스트 테스트에 돌입한 동시에 ArF 포토레지스트 연구개발을 시작했다고 선언했다. 19일 중국 언론 커촹반르바오에 따르면 징루이의 천왕펑(陈万鹏) 재무총괄은 "과산화수소수와 황산의 양산, 그리고 KrF 포토레지스트의 시생산을 시작했다"며 "반도체 재료 사업의 매출 비중을 늘려나갈 것"이라고 밝혔다. 징루이는 이미 i라인 포토레지스를 양산해 중국 주요 웨이퍼 제조 기업에 공급하고 있으며, KrF 포토레지스트는 테스트
삼성전자를 비롯한 국내 반도체 기업들이 향후 10년간 모두 510조원 이상을 투자한다. 정부도 반도체를 ‘핵심전략기술’로 지정하고 연구개발(R&D)비의 최대 50%까지 세액공제를 해주는 등 세계 최대 ‘반도체밸리’를 구축하기 위한 ‘K반도체 전략’을 수립했다. 세계적인 반도체 패권 경쟁이 심화하는 가운데 민관이 총력을 모으기로 한 것이다. 문재인 대통령은 지난 13일 삼성전자 평택캠퍼스에서 열린 ‘K반도체 전략보고 대회’에 참석해 반도체 종합대책을 발표하며 “정부는 반도체 강국 대한민국의 자부심으로 반드시 글로벌 반도체 경쟁에서 승
중국 재료 기업이 불화아르곤(ArF) 포토레지스트 영역에서 생산 규모를 갖춰가고 있으며 내년 대량 생산에 돌입할 것이라고 밝혔다. 중국 나타(NATA Opto-Electronic Material)는 11일 기업설명회에서 회사의 ArF 포토레지스트 상품 개발과 상용화 진척을 설명하고 최근 이미 25톤 규모의 포토레지스트를 생산할 수 있는 공장을 건설했다고 밝혔다. 주로 ASML 첨단 이머전 리소그라피 장비 등에 이미 적용돼 사용되고 있다. 나타는 품질 검측에 쓰이는 리소그라피 장비 등 측량 장비가 해외에서 수입되는데, 이미 이를 갖췄
[편집자주] 첨단 제조업계 종사자들은 어떤 콘텐츠에 주목할까요? 첨단산업 전문매체 KIPOST 뉴스레터 회원들이 한주간 눈여겨 보셨던 기사를 순서대로 정리했습니다. KIPOST는 국내 4대 제조 대기업(삼성, LG, SK, 현대) 계열사 재직자를 비롯해 IT, 자동차 등 대한민국을 이끄는 산업계, 금융계, 정부 유관 기관과 학계 등 다양한 분야에서 보고 계십니다. 1. 3년만에 다시 파운드리 사업 뛰어든 인텔, 이번엔 성공할까?2. [현장에서] 검투사의 미국행, SK이노베이션은 옳은 선택을 한 걸까3. 삼성전자-ASML, EUV용
삼성전자와 네덜란드 ASML이 극자외선(EUV) 노광용 차세대 광원을 테스트하고 있다.
중국 SMIC가 14nm 공정 수율을 높이면서 성숙한 공정의 생산에 박차를 가하고 있다. 중국 언론 IT즈자에 따르면 SMIC의 협력사들이 SMIC의 14nm 공정 수율이 이미 TSMC에 근접했으며, 약 90~95% 수준이라고 전했다. 또 최근 SMIC는 각 공정별 생산능력이 풀가동되면서, 일부 성숙 공정 주문이 2022년 물량까지 배정된 상태다. SMIC는 지난 2019년 4분기부터 14nm 공정 양산을 시작했다. SMIC는 최근 14nm 생산능력을 위한 12억 달러 규모 장비 수급 연장 계약 사실도 공개했다. 지난 3일 SMIC
SK하이닉스가 극자외선(EUV) 노광장비 도입 계획을 확정했다. 10나노급 4세대(1a) D램 제품부터는 EUV 기술 사용이 불가피함에 따라 향후 5년간 20여대 EUV 노광장비를 도입할 전망이다.
중국 장비 기업 나우라(NAURA)가 지난해 큰 폭의 순익 성장을 기록한 것으로 추산하고 있다. 중국 언론 아이지웨이에 따르면 나우라는 지난해 상장사귀속주주 순익이 4억6000만 위안에서 5억8000만 위안(약 788억5300만 원~994억2400만 원) 수준이 될 것으로 내다봤다. 이는 지난해 대비 48.85%~87.68% 늘어난 것이다. 나우라는 지난해 하위 공급망 고객의 수요가 왕성한 동시에 회사가 코로나19에 적극적으로 대응하면서 빠른 업무 복귀와 연구개발, 생산, 수주 등을 정상적으로 진행해 이같은 성과를 냈다고 설명했다.