안티몰화물 적용 반도체 시생산

중국에서 차세대 반도체 재료 기술을 적용한 반도체 공장이 시가동에 돌입했다. 

6일 중국 언론 진룽졔에 따르면 중국 첫 4세대 반도체 생산라인이 산시(山西)성 진청(晋城)시 광기전산업연구원이 추진한 안티몬화물(antimonid) 반도체 공장이 최근 시운영을 시작했다. 내년 1만 개의 칩을 생산할 계획이다. 

이 공장은 중국 첫 4세대 반도체 생산라인이다. 

중국에서 4세대 반도체란, 산화갈륨(Ga2O3), 질화알루미늄, 안티몬화물(밴드갭이 4eV를 초과)로 대표되는 초광대역 밴드갭 반도체 물질을 의미한다. 재료가 더 작고, 더 낮은 에너지를 소비하면서 더 강력한 기능을 가져 열아한 조건에서 광전자장치와 전자장치에 적용될 수 있어, 장치 사용의 가성비를 높인다. 

 

안티몬화물(antimonid). /바이두 제공

 

이번에 건설된 안티몬화물 레이저칩 생산라인은 진청시 광기전산업연구원이 중국과학원 반도체연구소 니우즈촨(牛智川) 교수팀이 주도해 만든 첫 라인으로, 안티몬화물 반도체 레이저 칩 핵심 기술을 토대로 안티몬화물 고효율 레이저 칩과 싱글 모듈 레이저칩을 연구개발 및 생산하게 됐다. 이 칩은 향후 레이저 가공과 의료 절삭 등 여러 영역에 적용될 예정이다. 

이 프로젝트에는 대략 8202만8200위안(약 147억 2600만 원)이 투입됐다. 

진청시 광기전산업연구원은 이번 시제품 생산을 통해 4세대 반도체 레이저의 종합적 성능이 이미 중국 내 선두 수준에 도달했다고 밝혔다. 

최근 4세대 반도체 기술에 대한 관심이 높아지고 있는 가운데, 안티몬화물은 중요한 지위를 갖고 있다. 고전적  III-V 계열로서 이미 일부 해외에서는 관련 재료와 부품 수출을 봉쇄하거나 독점 기술로 보유하고 있다. 

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