푸린테크놀로지(璞璘科技, PuLin Technology)는 독자 개발한 나노임프린트(NIL) 리소그래피(노광) 장비 고객사 검증을 마치고 공급을 시작했다고 5일 밝혔다. 

푸린테크는 자사 ‘PL-SR’ 시리즈는 잉크젯 스텝-앤-리피트(step and repeat) NIL 리소그래피 장비로, 10나노 이하 공정에서 활용할 수 있다고 설명했다. 또 스테퍼 하드 플레이트의 비진공 라미네이션, 얇은 접착제 임프린팅을 통한 잉크젯 분사, 임프린팅 중 잔류 접착제층 제어 같은 난제를 성공적으로 극복했다고 덧붙였다. 

리소그래피는 웨이퍼 위에 회로 패턴을 그려내는 공정이다. 웨이퍼에 화학약품을 도포한 다음 광원을 쬐어 패턴을 형성한다. NIL 리소그래피는 나노 패턴이 각인된 스탬프를 이용해 웨이퍼에 도장을 찍는 것처럼 나노 패턴을 전사하는 방식이다. 

일본 캐논이 반도체 미세 공정용 파운드리와 D램 공정을 겨냥해 첫 출시했고, 여러 반도체 기업들이 테스트하고 있다. 

NIL 리소그래피는 ASML의 EUV(극자외선) 리소그래피 기술과 달리 EUV 광원이 필요 없어 전력 소비를 EUV의 10% 수준으로 대폭 줄일 수 있고, 장비 투자 비용도 EUV의 40% 수준에 불과하다. 패턴이 달라질 때마다 인쇄 헤드를 교체해야 해 복잡한 논리 회로 패턴을 형성하는 데는 한계가 있다. 반면 낸드플래시 메모리 등 동일한 패턴의 다중 레이어를 구현해야 하는 공정에서는 헤드를 교체할 필요 없이 빠른 속도로 패턴을 형성할 수 있어 유용하다.

중국 반도체 업계는 이 제품이 중국 수출이 금지된 캐논 NIL 리소그래피 장비를 대체할 수 있을 것으로 기대했다. 

푸린테크는 나노임프린트 장비와 소재 전문 개발사로, 100명 이상의 기술 분야 직원 중 90%가 석박사로 구성됐다.