일본 캐논이 NIL(나노임프린트) 방식의 반도체 리소그래피 장비를 미국 TIE(텍사스전자연구소)에 첫 공급했다. NIL을 이용하면 반도체 노광공정 투자비와 운영비를 크게 절감할 수 있다는 점에서 양산 신뢰성을 확보할 수 있을지 반도체 기업들의 관심이 높다. 

캐논은 세계 첫 반도체용 NIL 설비인 ‘FPA-1200NZ2C’를 미국 TIE에 공급한다고 26일 밝혔다. 캐논측은 FPA-1200NZ2C가 5nm(나노미터) 노드에 해당하는 14nm 선폭을 구현할 수 있다고 강조했다. 

TIE는 텍사스대학교(The University of Texas at Austin), 주정부, 반도체 기업들이 연합해 2021년 설립한 반도체 전문 연구기관이다. 기업들이 팹 공정부터 첨단 패키지까지 공정상 문제를 공동 연구개발 할 수 있게 각종 장비와 공간을 제공한다. 이번에 캐논이 FPA-1200NZ2C를 공급함으로써 TIE 회원사들은 조만간 NIL 관련 연구를 수행할 수 있을 전망이다. 

NIL은 기존 고출력 자외선을 이용한 노광장비와는 달리, 마스크로 도장을 찍듯 반도체 회로 패턴을 새기는 기술이다. 잉크젯 기술을 이용해 웨이퍼 표면에 PR(포토레지스트)을 분사한 뒤, 회로 패턴이 새겨진 마스크를 찍고 그 위로 자외선을 조사한다. 이를 통해 PR이 패턴화 되며, 이후 현상-식각 등의 과정은 이전과 동일하다. 

NIL의 장점은 장비 투자비와 운영비를 크게 절감할 수 있다는 점이다. 미타라이 후지오 캐논 CEO는 지난해 언론 인터뷰에서 FPA-1200NZ2C 가격이 ASML의 EUV(극자외선) 노광장비 대비 한 자릿수 낮을 것이라고 밝힌 바 있다. 아직 공급단가가 정해지지 않았지만 최대 9% 정도 싸다는 의미다. 또 EUV를 발생시키기 위해서는 다량의 전력이 필요한데 NIL은 상대적으로 전력 소모가 적은 것으로 알려졌다. 

다만 관련 소재⋅부품⋅장비 인프라가 풍부한 노광 기술과 달리 NIL은 이제 막 기술이 개화하는 시점이라는 게 한계다. NIL에 쓰이는 마스크와 PR, 검사장비 등 생태계가 마련되어야 양산에 적용할 수 있다.