반도체 웨이퍼 처리 솔루션 전문기업인 ACM 리서치는 자사의 싱글 웨이퍼 고온 과산화황 혼합물(SPM) 장비가 중국 주요 비메모리 반도체 제조회사로부터 품질 평가를 받았다고 7일 발표했다.

지금까지 ACM은 13개 고객사에 자사의 SPM 장비를 공급했다. 이 시스템은 ACM 고유의 노즐 설계가 특징으로, SPM 공정 중에 황산 분진(acid mist)의 비산을 방지함으로써 입자 성능을 개선하고 챔버 예방정비 세정 빈도를 줄이며 시스템 가동 시간을 향상시킨다. 이 장비는 28나노미터(nm) 이하의 기술 노드에서 전공정과 후공정 모두에 대한 습식 식각 및 웨이퍼 세정을 지원한다.

ACM의 싱글 웨이퍼 중온/고온 SPM 장비는 섭씨 90°C의 중저온 황산 세정, 170°C의 고온 황산 포토레지스트 박리, 190°C의 초고온 황산 금속 리프트오프 등 다양한 프런트엔드 및 백엔드 습식 식각 및 세정 공정에 적합하다.

반도체 공정 노드가 발전함에 따라 싱글 웨이퍼 고온 황산 처리에 대한 수요가 크게 증가하고 있다. 입자 제어, 챔버 환경 관리 및 황산 온도 안정성에 대한 요구 사항이 점점 더 엄격해지고 있는 이유다. 이러한 과제에 대응하기 위해 ACM은 싱글 웨이퍼 중온/고온 SPM 장비에 혁신적인 설계를 도입해 업계의 진화하는 요구 사항을 충족하는 즉시 배포 가능한 솔루션 공급회사로 자리매김했다. 

이 장비는 최고 혼합 온도가 230℃를 넘지 않고 안정적으로 제어되는 다단계 가열 방식 기능과 고온 SPM이 챔버 외부로 튀는 것을 방지하는 SPM 노즐 설계로 26nm 노드에서 평균 입자 수가 10개 미만인 우수한 입자 제어 성능을 구현했다. 

싱글 웨이퍼 중온/고온 SPM 장비에는 인라인 화학적 혼합 시스템과 다양한 화학 용액을 수용할 수 있는 구성 가능한 공정 챔버가 장착돼 있다. 또 이 장비는 ACM의 SAPS 및 TEBO 메가소닉 기술과 원활하게 통합함으로써 유기 오염물 제거 성능을 강화하고 웨이퍼 표면 준비를 더욱 향상시킬 수 있다.