중국 전자소재 전문업체 딩룽홀딩스는 반도체 노광공정용 포토레지스트 양산라인을 신설한다고 26일 밝혔다. 후베이성 첸장에 들어설 신규 생산라인은 연산 300톤의 ArF(불화아르곤) 및 KrF(불화크립톤) 공정용 포토레지스트를 생산한다. 

ArF⋅KrF는 모두 DUV(심자외선) 노광에 속하는 기술로, EUV(극자외선)가 양산라인에 적용되기 전까지 가장 최선단 라인에서 활용됐다. ArF는 이머전 공정까지 혼용할 경우, 최저 14nm(나노미터) 선폭의 반도체를 만들 수 있다. KrF는 ArF 대비 감도는 떨어지지만 3D 낸드플래시 생산라인에서 여전히 폭넓게 활용되고 있다. 

미국과 동맹국인 네덜란드⋅일본⋅한국의 반도체 제재에 맞서고 있는 중국으로서는 노광장비와 함께 시급히 국산화 해야 할 품목이 포토레지스트다. 중국 제일재경은 딩룽홀딩스가 시험 생산한 포토레지스트가 지금까지 총 13종에 이르며, 이 가운데 5종은 고객사 테스트용으로 공급됐다고 설명했다. 그러나 그 고객사가 어디인지, 양산 공급 가능성은 어느 정도 되는지에 대해서는 부연하지 않았다. 

딩룽은 이번 프로젝트를 위해 합작사를 설립할 계획이다. 합작사 지분 75%는 딩룽이 소유하며, 20%는 포토레지스트 생산기술을 보유한 2개 회사가 보유하게 된다. 나머지 5%는 일부 FI(재무적투자자) 몫이다. 딩룽이 그동안 CMP(화학기계연마) 공정용 세정액과 CMP 패드 등을 공급해왔던 점을 감안하면, 20% 지분을 갖게 되는 파트너가 결국 포토레지스트 생산 기술을 제공하게 될 것으로 추정된다. 다만 딩룽측과 제일재경 모두 합작 파트너가 정확히 어딘지는 밝히지 않았다. 

그동안 중국에서 ArF⋅KrF 포토레지스트를 양산했거나, 양산을 시도했던 회사는 나타(NATA)⋅징루이 등이 있다. 이 두 회사 중 한 군데가 딩룽과 합작사를 설립하는 것일수도 있다.