100% 중국 IP 적용...22nm 등 생산 가능

중국 정부 산하 과학기술 싱크탱크 역할을 하는 중국과학원이 반도체 생산을 위한 리소그라피 장비를 개발해 발표했다. 미국의 반도체 '봉쇄정책'에 대항할 수 있는 무기가 생겼다는 입장이다.

지난 29일 중국과학원은 2012년 부터 7년 간 추진해 온 '초해상 리소그라피 장비 프로젝트'를 통해 개발된 장비가 청두에서 시험검증을 받았다고 밝혔다. 과학원은 이 장비가 세계 첫 해상 역량이 가장 높은 자외선 초해상 리소그라피 장비라고 발표했다. 365nm 파장에서 22nm 공정 칩 생산이 가능하며, 다중 노출 등 수단을 통해 10nm 이하급 공정 칩 생산도 가능하다고 부연했다.

중국 언론은 이 리소그라피 장비가 해외 초해상 리소그라피 장비 기술 지식재산권(IP) 장벽을 무너뜨리면서 처음으로 나노미터 광학 리소그라피 공정 노선을 가능케했다고 자부했다.

이 장비는 100% 중국 IP로 개발됐다는 설명이다.

아직 시제품 단계이기 때문에 한계는 있다. 곧장 칩 제조에 쓰일 수는 없겠지만 일부 군사용 반도체 재료 등 제조에 적용될 수 있을 것이란 분석도 있다.

 

중국과학원이 개발한 리소그라피 장비 렌즈. /중국 커지처 제공
중국과학원이 개발한 리소그라피 장비 렌즈. /중국 커지처 제공

 

이 장비가 채용한 기술은 기존 리소그라피 장비 주류 기술과 차이가 있으며 IP 제약을 넘어서기 위해 세계 첫 표면 플라즈마 기술 설비 성형을 실현했다고 언급했다.

최근 중국은 반도체 제조 기술 격차에 따른 문제에 크게 노출돼 있던 터였다. 최근 TSMC가 7nm 양산에 돌입했지만 중국 최대 파운드리 기업 SMIC는 14nm 공정 진입 단계다. TSMC와 최소 2~3년의 격차가 있다.

이 가운데 핵심 장비 부재는 더욱 발목을 잡았다. 기술 난이도가 높은 리소그라피 공정의 경우개발 자체가 쉽지 않아 제자리걸음을 걸어왔다.

세계 최대 리소그라피 장비 기업 네덜란드 ASML의 경우 이미 7nm 공정 제조가 가능한 상황이지만 단가가 1억 유로에 이른다. 반면 중국에서 개발된 SMEE의 리소그라피 장비 최고 공정이 90nm 였다.

이 같은 상황에서 중국과학원이 리소그라피 장비 개발 사실을 발표하면서 향후 중국 반도체 제조 환경에 모종의 변화가 일어날 수 있을 것이란 전망도 나왔다.

 

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