삼성전자의 평택 2라인이 양산 가동에 돌입했다. 첫 제품은 극자외선(EUV) 기반 3세대 10나노급(1z) LPDDR5 모바일 D램이다. 내년 하반기에는 이 생산라인에서 파운드리 사업부의 5나노 3세대 공정 제품과 메모리 사업부의 V낸드가 양산된다.삼성전자(대표 김기남·김현석·고동진)는 평택 2라인이 양산 가동을 시작했다고 30일 밝혔다. 지난 2015년부터 조성된 평택캠퍼스는 289만㎡의 부지를 가진 삼성전자의 차세대 반도체 전초기지다. 평택 1라인은 2017년 6월 양산을 시작했으며, 평택 2라인은 2018년 1월 착공됐다. 평
삼성전자가 오는 10월 5나노 1세대 공정인 가칭 ‘5LPE(Low Power Early)’의 대량 양산에 돌입한다. 모바일 애플리케이션프로세서(AP)용으로, 고객사로는 퀄컴과 삼성전자 시스템LSI 사업부가 이름을 올렸다. 2세대는 ‘5LPP(Low Power Plus)’로 내년 1분기 양산이 시작된다. 3세대는 삼성전자 파운드리 공정 중 처음으로 ‘LPI(Low Power Improve)’라는 이름이 붙은 ‘5LPI’로, 내년 2분기 내 양산에 돌입한다. 5LPE·LPP, 관건은 퀄컴의 물량삼성전자 5나노 공정이 오는 10월 본격