반도체 제조공정에서 스토캐스틱(stochastic) 기반 분석과 제어 솔루션 전문업체인 프랙틸리아(Fractilia)가 프랙틸리아 오버레이 패키지(Fractilia Overlay Package)를 제공한다고 26일 밝혔다.

프랙틸리아 오버레이 패키지는 프랙틸리아의 MetroLER™ 및 FAME™ 제품에 핵심적인 오버레이 측정 및 분석 기능을 새롭게 추가하는 옵션 제품이다.

MetroLER™와 FAME™은 프랙틸리아의 특허 기술인 FILM™(Fractilia Inverse Linescan Model) 기술에 진정한 컴퓨터 분석 기술을 결합한 것으로, 첨단 노드에서 패터닝 오류의 원인으로 지목되는 모든 주요 스토캐스틱 효과를 정확하고 정밀하게 측정할 수 있는 팹 솔루션을 제공한다. 현재 다수의 반도체 칩 제조사들이 자신들의 주사전자현미경(Scanning Electron Microscope, SEM) 기반 오버레이 데이터 분석에 새로운 프랙틸리아 오버레이 패키지를 활용하고 있다.

프랙틸리아의 FAME 솔루션 포트폴리오는 고유의 물리학 기반 SEM 모델링 및 데이터 분석 접근법을 사용해 SEM 이미지로부터 시스템 차원의 임의적 오차를 분석 및 제거하고, 이미지가 아닌 실제 웨이퍼 상에 일어나고 있는 것을 정확히 측정하도록 한다.

FAME은 라인 에지 거칠기(LER)/라인폭 거칠기(LWR), 국소적 CD 균일성(LCDU), 국소적 에지 배치 오류(LEPE), 그리고 스토캐스틱 결함 같은 모든 주요 스토캐스틱 효과를 동시에 측정할 뿐 아니라 임계선폭(CD) 분석도 제공한다. 이는 업계에서 신호대 잡음비(SNR)가 가장 높은 에지 검출을 구현하며(경쟁 솔루션 대비 최대 5배 더 높은 SNR), 각각의 SEM 이미지로부터 30배 이상 더 많은 데이터를 추출한다.

새로운 프랙틸리아 오버레이 패키지를 통해 프랙틸리아는 기존의 분석 성능에 더해 고도로 정확한 SEM 기반 오버레이 분석(스토캐스틱 특성 분석 포함)을 추가하게 됐다. 프랙틸리아의 제품은 선도적인 주요 반도체 제조사, 장비 회사, 소재 공급회사, 연구 기관 등 반도체 업계 수십 여 기업들이 채택하고 있다.