어플라이드 CVD 솔루션 ‘프로듀서’, 20년간 5000대 출하

어플라이드머티어리얼즈(AMAT)는 올해 출시 20주년을 맞은 화학기상증착(CVD) 솔루션 ‘프로듀서 플랫폼(Producer platform)’을 5000대째 출하했다고 5일 밝혔다.


▲어플라이드머티어리얼즈의 화학기상증착(CVD) 솔루션 프로듀서 플랫폼(Producer platform)은 출시 후 20년간 총 5000대 출하됐다./AMAT


CVD는 웨이퍼에 화학적인 방법으로 소재를 증착하는 기술이다. CVD 이후 목적에 따라 식각, 선택적 제거, 열처리 등의 공정이 진행된다. 이전에는 각 공정별로 설비가 필요해 투자액이 많이 필요했고, 웨이퍼 이동 시 오염 문제 등이 발생했다.


‘프로듀서 플랫폼’은 CVD와 이후 이어지는 공정을 하나의 장비로 해결할 수 있도록 만든 솔루션이다. 지난 1998년 7월 출시 후 업계 기준으로 자리 잡았다. 


특히 배선 소재로 기존 알루미늄보다 전기전도성이 높은 구리(Cu)가 쓰이면서 이 솔루션에 대한 수요가 커졌다. 


알루미늄 배선은 증착, 패턴을 형성한 후 식각만 하면 돼 비교적 간단했다. 하지만 구리는 건식 식각(Dry etching)이 어려워 복잡한 상감기법(Damascene)을 활용한다. 절연층(Seed layer)을 증착하고 식각으로 홈을 파 그 안에 구리 층을 까는 방식이다.


현재까지 ‘프로듀서 플랫폼’을 거친 반도체의 면적을 다 합치면 총 19억㎡ 규모로, 뉴욕 맨하튼 면적의 30배에 달한다. 구리 배선뿐 아니라 하이케이메탈게이트(HKMG) 형성, 핀펫(FinFET) 등에도 활용된다. 

 
G. 댄 허치슨(G. Dan Hutcheson) VLSI 리서치 대표 “프로듀서 플랫폼은 180나노부터 50나노까지 다양한 기술을 지원하고, 생산성도 높다”며 “어플라이드가 반도체 산업의 가장 중요한 공정 시스템에 큰 획을 그었다”고 말했다.

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