중국 반도체 장비 기업이 정부의 자금 지원을 통해 14nm 이하급 미세공정용 장비 개발을 가속한다. 플라즈마 에칭 장비 등 총  세 가지 장비 개발 프로젝트를 위해 받는 투자 총액이 2억 위안(약 325억2200만 원)에 이른다.

 

중국 반도체 장비 업체 노라(NAURA, 北方华创科技集团股份有限公司)와 자회사이자 반도체 장비 비즈니스그룹(BG)인 베이팡화촹마이크로전자장비(北京北方华创微电子装备有限公司)는 베이징시 경제 및 정보화위원회로부터 국가 과기 중대 프로젝트를 통해 ‘14nm 입체 플라즈마 에칭 장비 연구개발 및 산업화’ 항목의 9423만 위안(약 153억2274만 원) 규모 자금을 투자받기로 했다고 밝혔다.


 

▲노라의 14nm 공정 장비. /노라 제공


 

이 외에도 14~28nm 원자층 증착 장비(ALD) 상품 연구 개발 및 산업화 프로젝트 투자액으로 4811만 위안(약 78억2317만원), 7~14nm CuBs 멀티 프로세스 챔버 통합 장비 연구개발과 산업화 프로젝트를 위해서도 4746만 위안(약 77억1747만원) 규모의 투자를 받는다.  

14~28nm ALD의 경우 2018년까지 개발이 이뤄지게 되며, 7~14nm CuBs 멀티 프로세스 챔버 통합 장비 개발은 2019년 산업화를 목표로 로드맵을 그렸다.


세 프로젝트의 투자 자금은 베이징전자주주유한책임회사가 융자하는 형태이며 중앙정부와 지방정부 등이 각각 지원했다. 

 

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