중국 장비기업 나우라(NAURA)는 상하이반도체연구개발센터유한회사(ICRD)와 공동으로 나우라의 'NMC612D ICP(inductively coupled plasma) 에칭장비(Etcher) 등 중국산 장비를 채용해 14nm 핀펫(FinFET) 셀프얼라인더블패터닝(SADP, Self-aligned Double Patterning) 관련 공정을 자체적으로 개발했다고 밝혔다. 각 공정 지표가 양산 요구에 부합해 14nm 핵심 공정 기술에 있어 중요한 진전을 이뤘다고 설명했다. 최근 반도체 선폭이 감소하면서 SADP를 통해 19
ASML이 중국 국적의 직원 채용을 거절하고 있다는 정황이 포착됐다. 미국 트럼프 정부가 ASML의 중국인 ...
중국 상하이 소재 반도체 연구개발 센터와 네덜란드 리소그래피 장비 업체가 손잡고 상하이에 반도체 포토리소그래...