포토레지스트 개발 검증 단계...반도체 재료 국산화 가속

중국 재료 기업이 반도체용 하이엔드 포토레지스트 개발에 속도를 낸다. 

중국 베이룬(北仑)신문망에 따르면 신강(芯港)타운에 위치한 나타옵토일렉트로닉매트리얼(NATA OPTO-ELECTRONIC MATERIAL)이 포토레지스트 개발 및 테스트를 위해 내년 2월 리소그래피 장비를 도입한다. 

올해 7월 나타옵토일렉트로닉매트리얼은 투자자 교류 플랫폼에서 회사에 포토레지스트 사업부를 설립한다고 밝히고, 100% 자회사인 '닝보(宁波)나타옵토일렉트로닉재료유한회사'를 설립했다. 불화아르곤(ArF) 포토레지스트 개발과 산업화를 목표로 하는 회사다.

 

나타옵토일렉트로닉매트리얼 전경. /반도체투자연맹 제공

 

최근 연구개발 기술의 검증 단계에 있으며 내년 말 한 개의 포토레지스트 생산라인을 구축할 계획이다.  

지난 10월 23일 회사는 공시를 통해 193nm 포토레지스트 상품의 개발과 산업화 추진 상황을 밝히면서 원재료 등 생산라인을 지을 것이라고 밝힌 바 있다. 

나타옵토일렉트로닉매트리얼은 닝보경제기술개발구관리위원회와 협약을 체결하고 닝보경제기술개발구에 하이엔드 반도체 제조용 포토레지스 및 원재료, BARC(Bottom Antireflective Coating) 등 고순도 맞춤형 재료를 개발하기로 했다. 더불어 대규모 생산능력을 갖추고 중국산 포토레지스트 산업사슬을 구축키로 했다.

이 프로젝트에는 총 6억 위안(약 1000억 원)이 투자되며 공장 가동 이후 연 10억 위안(약 1667억 3000만 원) 수준의 판매액을 기대하고 있다. 

중국 닝보에 위치한 신강타운에는 SMIC를 비롯한 여러 반도체 기업이 자리하고 있으며 반도체 제조부터 장비, 설계 등 여러 기업이 투자를 진행했다.

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