"美 제재 장기화 대비"

미국발 제재를 받고 있는 화웨이가 중국 내 반도체 생산 인프라 투자를 크게 늘렸다.

중국 화웨이가 우한(武汉)시 하이실리콘 공장에 18억 위안(약 2980억 원)을 투자해 생산능력을 확대한다. 

이와 관련해 앞서 이달 10일 우한시 국토자원및규획국은 '화웨이 우한 연구개발 생산 프로젝트(2기)' A구역 하이실리콘 광(光)공장 투자 면적을 확대하는 내용의 공시를 한 바 있다. 

화웨이의 우한시 하이실리콘 투자 공시. /우한시 제공
화웨이의 우한시 하이실리콘 투자 공시. /우한시 제공

쉽게 말해 본래 계획된 전체 건설 면적을 추가로 대폭 확대한 것이다. 

공시 내용에 따르면 기존 1개 동으로 이뤄진 하이실리콘의 공장을 7개 동으로 늘리면서 소프트웨어 공장, 생산 공장1, 동력 스테이션, 창고1, 창고2, 창고3, 수소공급 스테이션 기지로 나눈다. 기존 건축물 면적 5903.53㎡에서 4만2682.19㎡로 늘리고 건축 면적은 1만1836.59㎡에서 17만9731.72㎡로 늘어나게 된다. 

중국 업계에서는 이번 하이실리콘의 공장 투자가 대폭 확대된 배경을 미국발 제재 탓이라고 보고 있다. 화웨이가 반도체 관련 인프라 투자를 늘리면서 제재 장기화에 대비하고 있다는 것이다. 최근 화웨이의 런정페이 회장도 미국 정부의 '거래금지령 해제에 시간이 소요될 것'이란 취지로 말하면서 관련 준비에 돌입했다고 설명한 바 있다. 

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